Rättelse till ändring av Europaparlamentets och rådets förordning (EU) 2021/821 vad gäller förteckningen över produkter med dubbla användningsområden

På sidan 142, bilaga I punkt 3B001, ska led f ersättas med följande:

”f) Litografisk utrustning enligt följande:

1) Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:

a) Ljuskällans våglängd är kortare än 193 nm, eller

b) kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre. Teknisk anmärkning: Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel: där K är en skalfaktor = 0,35

2) Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 45 nm eller mindre. Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:

Verktyg för mikrokontakttryck.

Verktyg för värmeprägling.

Verktyg för nanopräglingslitografi.

S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).

3) Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:

a) Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser” strålar, och

b) har något av följande:

1) En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre än 17 nm (medelvärde + 3 sigma). eller

2) Används inte.

3) Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.

4) Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:

a) Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och

b) har något av följande:

1) En minsta strålstorlek på högst 15 nm. eller

2) Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”